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用于浸没曝光的抗蚀剂组合物及使用其的图案形成方法
Resist composition for immersion exposure and pattern formation method using the same
US-7326516-B2用于半导体浸没光刻工艺中的抗蚀剂图案形成。
专利摘要
一种用于浸没的抗蚀剂组合物，包含：(A)在酸作用下在碱性显影剂中溶解度增加的树脂；(B)光酸产生剂；和(C)含有烷二醇烷基醚羧酸酯和丙二醇单甲醚的混合溶剂。
Original abstractA resist composition for immersion, comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a photoacid generator; and (C) a mixed solvent containing an alkylene glycol alkyl ether carboxylate and a propylene glycol monomethyl ether.
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